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离子源电源的应用及原理
时间: 2024-5-17 浏览次数:99

离子束辅助镀膜是近些年出现的新技术,在磁场和电场的作用下,闭环迁移的电子与气体碰撞放电形成离子,电场将离子引出加速发射,离子带有能量,具有能量的离子与电子聚集形成等离子体。

因普通物理清洗、烘干方式无法完全去除被镀工件表面污染物,而进行镀膜前,彻底的清洁处理至关重要,则使用该技术,借助等离子体深度清洗、轰击、刻蚀被镀工件,清除表面结合力弱的分子,并活化基体,从而提高膜层结合力,改善晶体结构。

因其成膜原子能量低、膜层附着力差但沉积速率快、镀制膜系广泛、可优化薄膜结构改善薄膜生长等特点,该技术一般不用于镀制膜层,只用于清洗、轰击、辅助沉积等。

在实际中,我们通过离子源电源实现该技术,除上述特点外,离子源电源还能提升气体离化率和活化度,与金属离子高效结合。重复性及一致性高,适用于工业化批量生产。因其薄膜光学特性还可用于光学、半导体等领域。

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派立特生产的离子源电源采用进口IGBT搭配先进的MCU,PWM脉宽调制技术,为客户提供了大范围连续平稳可调的电压、电流、占空比,控制精度高。理性的电压陡降特性能够有效地抑制离子源表面的打火现象。极佳的负载匹配能力,既能保证清洗工艺的稳定性,还能提高清洗速度。

此外,我司的离子源电源为脉冲输出,标准电源电压峰值有2000V3000V可选。针对宽缝、窄缝不同工艺要求,我们为客户提供了恒流、恒压不同工作模式的电源。通讯接口为本地控制、模拟量和数字量三种可选,操作更加便捷。当然,美观、轻巧、高稳定性等特点,一直是派立特对电源的基础要求,期待您的咨询。



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